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고진공 다중 타겟 마그네트론 스퍼터링 코팅 장비
1. 제품 설명 고진공 다중 타겟 마그네트론 스퍼터링 기술을 통해 경질 박막, 내부식성 마찰 방지 박막, 초전도 박막, 자성 박막, 광학 박막, 장식용 박막은 물론, 다양한 특수 기능을 가진 재료의 표면 개질용 박막을 제조합니다. 2. 장비 특징 및 장점 양극층 이온원을 통해 이온화율을 높여 고효율과 고품질의 박막 보조 증착을 실현합니다. 또한 펄스 바이어스 역스퍼터링/에칭을 통해 워크피스 표면을 세척하고, 바이어스 전기장이 증착을 돕습니다. 스퍼터링 타겟 4세트와 양극층 이온원 1세트가 갖춰져 있습니다.
